TAU系列离子微粒吸附设备在面板生产中主要应用于曝光机设备，用于去除空气中可能会降低曝光机镜组折射率的有害物质。同时具有精确控制温度和控制湿度的功能。
设备特点
•提升产品蚀刻及显影良率
•防止曝光设备镜面雾化以延长镜组使用年限
•防止镜片组污染，延长灯具照度与寿命
产品应用
•湿度控制精度：±5%RH~±3%RH
•温度控制精度：±0.5℃~±0.3℃
•气状分子污染物去除率：＞80% in Main AMC
•适用领域：主要用于面板厂、晶圆厂、封装测试厂的曝光机镜面防雾化, 去除吸入曝光
TAU Series离子微粒吸附设备