PlasmaPro 80 ICPCVD化 […]
PlasmaPro 80 ICPCVD化学气相沉积系统 Read Post »
1. 产品概述 PlasmaPro 10
PlasmaPro 100 ICPCVD化学气相沉积系统 Read Post »
PlasmaPro 100 PECVD化
PlasmaPro 100 PECVD化学气相沉积系统 Read Post »
PlasmaPro 80 PECVD化学
PlasmaPro 80 PECVD化学气相沉积系统 Read Post »
PlasmaPro 800 PECVD化
PlasmaPro 800 PECVD化学气相沉积系统 Read Post »
HORIC L200 LPCVD系统,主
HORIC L200卧式低压化学气相沉积系统 Read Post »
Esther E320R主要用于体硅外延
Esther E320R 8英寸单片减压硅外延系统 Read Post »
EPEE i200系列主要用于6/8英寸
EPEE i200等离子体增强化学气相沉积系统 Read Post »