iTops i233主要用于2/4/6/ […]
iTops i233 PVD ITO溅射系统 Read Post »
GDE C200系列高密度刻蚀机主要用于
GDE C200系列高密度化合物刻蚀机 Read Post »
HSE P300 深硅刻蚀设备面向12英
HSE P300 深硅刻蚀机 Read Post »
等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD
等离子体增强化学气相沉积系统（PECVD） Read Post »
MPALD微波等离子体增强原子层沉积系统
微波等离子体增强原子层沉积系统（MPALD） Read Post »
300X400mm钙钛矿电池专用热原子层
热原子层沉积系统（TALD） Read Post »
桌面型热原子层沉积系统（桌面型TALD）
桌面型原子层沉积系统（桌面型TALD） Read Post »
• XY 气浮运动平台，采用无铁芯直线机
气浮平台系列 Read Post »
• 高度低：30mm• 可搭载XY 平台
直驱旋转平台 Read Post »
