PlasmaPro 800 PECVD化学气相沉积系统为大批量晶圆和 300mm 晶圆的等离子增强化学气相沉积 （PECVD） 工艺提供了灵活的解决方案，它采用了紧凑的开放式装载系统。可实现大型晶圆大规模的批量生产和 300mm 晶圆处理。
高性能工艺
准确的衬底温度控制
准确的工艺控制
成熟的300mm单晶圆失效分析工艺
产品特点：
为化合物半导体、光电子和光子学应用提供了更为灵活的工艺，PlasmaPro 800 PECVD化学气相沉积系统可提供：
大型电极 – 低成本
刻蚀终点监测 – 可靠性和可维护性俱佳
通过激光干涉仪与/或发射光谱进行终点监测 – 增强刻蚀控制
可选择带有4-、8-或12-条气路的气柜 – 可提供灵活的工艺和工艺气体，可以与主机分离，放置在远端服务区
近距离耦合涡轮泵 – 提供优异的泵送速度加快气体的流动速度
数据记录 – 追溯腔室的历史状态以及工艺条件
液体冷却和/或电加热电极 – 出色的电极温度控制和稳定性