
GEN200 MBE分子束外延系统是当市场上具成本效益和高容量的多 4 英寸生产 MBE 系统。该系统在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等设备的生长中提供的吞吐量、长时间的加工周期和出色的晶圆质量。
GEN200 MBE分子束外延系统特点:
• 提供成本低的 4 x 4“ 外延片生长
• 与同类 MBE 系统相比,模块化架构的占用空间要小得多
• 允许多两个生长模块,从而提高产量或允许处理不相容的材料
• 可选的隔板安装优化了洁净室空间
• 集成了业界具创新性、可靠的系统硬件、源和组件

GEN200 MBE分子束外延系统是当市场上具成本效益和高容量的多 4 英寸生产 MBE 系统。该系统在用于泵浦激光器、VCSEL 和 HBT 等设备的生长中提供的吞吐量、长时间的加工周期和出色的晶圆质量。
GEN200 MBE分子束外延系统特点:
• 提供成本低的 4 x 4“ 外延片生长
• 与同类 MBE 系统相比,模块化架构的占用空间要小得多
• 允许多两个生长模块,从而提高产量或允许处理不相容的材料
• 可选的隔板安装优化了洁净室空间
• 集成了业界具创新性、可靠的系统硬件、源和组件