Tribo CMP化学机械抛光设备

Tribo CMP是一个高质量台式CMP设备,能理想的用于主要目的是进行中试生产测试的R&D环境(这种中试测试过去常常需要用到昂贵的生产型设备)。Tribo属于小型设备,占地面积小但功能强大,可用性强,并提供更大的生产量。这使得Tribo CMP系统能完美的用于制造和开发生产环境下的CMP工艺。

超轻组件像化学防腐抛光盘和抛光头可以确保系统完全由一人来操作。另外,它所占空间较小可方便安装在任何标准实验室内。Tribo的设计使得操作系统更灵活,具备以下特点: 
• 双容量/生产能力(2 x 4″晶圆)
• 完全由操作者控制修整器摆动速度和幅度
• 多种传感器备选,可在购买时选择或做为日后升级用
• 一起使用修整器和抛光头来增加工艺性能

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