iTops i233主要用于2/4/6/8/12英寸ITO沉积工艺。系统由传输模块、工艺模块、附属设备以及电源柜组成。该设备具有占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便，运营成本低等优势。
设备特点
• 采用托盘形式，可兼容2/4/6/8/12英寸wafer
• 低损伤溅射工艺
• 占地面积小，结构简单，操作灵活，维修方便
• 设备稳定，运营成本低
产品应用
• 晶圆尺寸：2、4、6、8、12英寸
• 适用材料：铟锡氧化物
• 适用工艺：ITO 电流扩展层
iTops i233 PVD ITO溅射系统