Polaris 系列PVD金属薄膜物理气相沉积系统主要由真空传输平台，去气腔室，预清洁腔室和工艺腔室组成，设备采用Cluster Tool架构，可配置多个工艺腔室、预清洗腔室和去气腔室，适用于科研领域。Polaris 系列PVD为全自动大产能设备，具有wafer自动传输，工艺去气，晶片表面预清洁、薄膜沉积完全自动化等特点。
设备特点
•多种材料膜层工艺能力，低损伤，高深宽比填充能力
•独立工艺腔室，最多可支持6个工艺模块
•优异的温度，颗粒控制能力
•配置灵活、大产能、低运营成本
产品应用
•品圆尺寸：6、8 英寸
•适用材料：银、钨化钛、金、铂、钛、氮化钛、铝等
•适用工艺：金属电极、背面金属化工艺等