SOPHI离子注入设备是一款中电流离子注入设备，在功率器件和IGBT领域中保持优异表现。
特长
可直接搬送并处理超薄晶圆
可直接搬送翘曲基板并实现高精度的光刻对准
利用平行离子束可实现高精度注入
在单离子模式下，SOPHI-200可加速至200kV, SOPHI-260可加速至260kV
维护简单便捷，运营成本低
可选配5kV低能量注入
支持Φ125mm、Φ150mm、Φ200mm基板
SOPHI离子注入设备
SOPHI离子注入设备是一款中电流离子注入设备，在功率器件和IGBT领域中保持优异表现。
特长
可直接搬送并处理超薄晶圆
可直接搬送翘曲基板并实现高精度的光刻对准
利用平行离子束可实现高精度注入
在单离子模式下，SOPHI-200可加速至200kV, SOPHI-260可加速至260kV
维护简单便捷，运营成本低
可选配5kV低能量注入
支持Φ125mm、Φ150mm、Φ200mm基板