Satur系列 MOCVD气相外延设备，采用金属有机化合物源输运方案，适用于氮化镓、砷化镓、磷化铟等化合物半导体外延生产。 设备全系自主研发，优化流场与温场设计，均匀性控制能力突出。经客户端量产工艺实测验证，整机性能与外延工艺水平达到国内领先，国际先进水平，助力化合物半导体产线自主化落地。
设备特点
• 优异的均匀性、一致性、稳定性控制
• 盒对盒全自动传输系统
• 先进的实时监控系统
• 友好界面与配方编辑功能
• 满足SEMI S2 安全标准
产品应用
• 晶圆尺寸：4、6、8英寸
• 适用材料：氮化镓、砷化镓、磷化铟
• 适用衬底：硅、碳化硅、氧化铝、砷化镓、磷化铟
• 适用领域：集成电路、化合物半导体、科研