IH离子注入设备是一款适用于功率器件和SiC器件的、可兼容高温和室温的高能离子注入设备。
特长
可瞬间切换高温/常温模式
可自动连续高温注入
支持1价离子400keV、2价离子800keV、3价离子1200keV
高吞吐量
双平台（高温平台和冷却平台）
可瞬间切换高温平台与冷却平台/向高温静电夹具施加电压脉冲
通过快速加热减少基板损伤/通过预热室缩短加热时间
可连续注入，减轻操作员的负担
紧凑型设计
广泛适用于从试制到量产的各种需求
IH-860PSIC支持最大φ150mm的基板，IH-1200PSIC支持最大φ200mm的基板。